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真空法表面處理技術(shù)

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-08-14
核心提示:這種方法是在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。

這種方法是在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。其主要方法是

        (一)物理氣相沉積(PVD)

在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層的過程,稱為物理氣相沉積,其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素,如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。

(二)離子注入

高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過程,稱為離子注入,如注硼等。

(三)化學(xué)氣相沉積(CVD)

低壓(有時(shí)也在常壓)下,氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過程,稱為化學(xué)氣相鍍,如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。

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